FUJIFILM XF 56mm f/1.2 R WR Lens

Fujifilm XF 56mm f/1.2 R WR-lens
Ultieme portretprime – Helder f/1.2 diafragma, 85mm equivalente brandpuntsafstand, 11-bladig iris & weersbestendige metalen constructie

De Fujifilm XF 56mm f/1.2 R WR is een premium portretlens met vaste brandpuntsafstand, native ontworpen voor APS-C-formaat Fujifilm X-mount spiegelloze camera's. Met een klassieke equivalente brandpuntsafstand van 85mm updatet deze weersbestendige lens een geroemde optische formule om te voldoen aan de eisen van moderne hogeresolutiesensoren. Het onderscheidt zich door het ultrasnelle maximale diafragma van f/1.2, biedt ongeëvenaarde onderwerpscheiding, uitzonderlijke prestaties bij weinig licht en genuanceerde scherptedieptebesturing – waardoor het een onmisbaar hulpmiddel is voor portret-, bruilofts-, mode- en commerciële fotografie.

Volledig opnieuw ontworpen, bevat de optische formule 13 elementen in acht groepen, met één Extra-Low Dispersion (ED)-element en twee asferische elementen. De focusgroep van acht elementen maakt gebruik van hoogbrekende glastechnologie die is overgenomen van FUJINON Cinema-lenzen, waardoor chromatische, sferische en coma-aberraties drastisch worden beperkt. De lens bereikt een verbeterde minimale scherpstelafstand van slechts 1.6 voet, waardoor gedetailleerde close-up tafel- en commerciële kadrering mogelijk is. Gecombineerd met een Super EBC-elementcoating om ghosting en flare tegen te gaan, een 11-bladig rond diafragma voor romige, zachte bokeh, en een robuuste 9-afdichtende weersbestendige behuizing, levert de XF 56mm f/1.2 R WR ongeëvenaard oplossend vermogen in elke opnameomgeving.

Belangrijkste kenmerken & optische uitmuntendheid

85mm equivalente portretperspectief: Biedt een ideaal kort-teleobjectief beeldhoek, afgestemd op flatteuze portretten, bruiloftsdocumentatie en commerciële productisolatie.

Ultrasnel f/1.2 diafragma: Maximaliseert lichtopvang voor donkere omgevingen en genereert extreem ondiepe scherptediepte-effecten om onderwerpen schoon te isoleren tegen onscherpe achtergronden.

Van cinema afgeleide optische lay-out: Bevat 13 elementen in 8 groepen, met gespecialiseerd ED- en asferisch glas om kleurranden, coma en lichtlekkage in highlights te minimaliseren.

11-bladig rond iris: Uitgerust met een 11-bladig diafragma dat zachte, cirkelvormige onscherpe highlights en vloeiende achtergrondovergangen oplevert.

Verbeterde 1.6′ minimale scherpstelafstand: Stelt fotografen in staat dichter bij hun onderwerpen te komen voor strakke kadrering, tafelwerk en intieme detailopnames.

Super EBC-coating: Beheerst flare en ghosting bij direct zonlicht of harde studiotegenlicht, behoudt rijk contrast en kleurgetrouwheid.

Weerbestendigheid & bouwkwaliteit

Robuuste volledig metalen constructie: Precisiegefreesde metalen behuizing ontworpen voor dagelijks professioneel veldgebruik met behoud van tactiele elegantie.

Uitgebreide weersafdichting: Beschikt over negen afzonderlijke rubberen afdichtingen langs de behuizing om interne optiek te beschermen tegen stof, vocht en vriestemperaturen tot 14°F.

Fluorcoating aan de voorkant: Stoot water, oliën, vlekken en stof af van het frontelement voor eenvoudige reiniging bij ongunstige weersomstandigheden.

Technische specificaties

Lenstype: Vaste portretlens

Lensbevestigingssysteem: Fujifilm X-mount native

Formaatcompatibiliteit: APS-C (85mm full-frame equivalent)

Brandpuntsafstand: 56mm

Maximaal diafragma: f/1.2

Minimaal diafragma: f/16

Optische constructie: 13 elementen in 8 groepen (1 ED, 2 asferisch)

Minimale scherpstelafstand: 1.6 voet / 50 cm

Diafragmaontwerp: 11-bladig rond iris

Filterdraaddiameter: 67 mm

Afmetingen (diameter x lengte): Ongeveer 3.1 x 3.0 inch / 79.4 x 76.0 mm

Gewicht: Ongeveer 15.7 oz / 445 g